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晶圓清洗機應用於各種晶圓清洗: SiC、GaN、LT/LN、Glass、Silicon Wafers。
SiC晶圓清洗機具有機台體積小,性價比高等多項優點。可使用Ozone(O3)產生器製造出臭氧水,能有效地去除晶圓表面的有機物、塵粒、汙染物。